近年来，大部分的新iPhone一直都保持着同样的“M字额”造型，不过Apple最近已成功申请多项的专利，其中包括把Touch ID与Face ID集成到屏幕底层，通过屏幕表面就能进行识别，相信新的iPhone将能告别“M字额”设计。
早前，美国专利商标局( USPTO ) 在其官网公布了Apple申请成功的77项专利，其中一项专利是组合于屏幕背板中的光电探测器，能把Touch ID与Face ID集成到屏幕底层，如成功应用技术，能推出屏上无孔识别Touch ID及Face ID的iPhone。
What do you guys think of this progression? Should Apple introduce a punch-hole design next year or wait until they can get rid of the notch completely?pic.twitter.com/aaW2x3hk4k
—Apple Hub (@theapplehub)March 4, 2021
据报，Apple的最新专利，通过在显示器层栈中嵌入一个光检测层，把一系列光和电的传感器，分布在显示器的显示区域内与其周围，从而检测触摸显示器的物体图片，适用于基于光学成像系统的Touch ID，从而实现屏幕上的指纹识别。
据悉，多项专利包括有关于光线的感应及生物识别传感器，例如相机、光场感应、深度感应、指纹成像、角膜和视网膜成像系统等，而光电探测器更能用于健康监测，为用户量度心电图(ECG)、脉搏或眼科扫描等。在补充说明中，似乎有大量的传感器都能，像是触摸感应、力度感应、生物识别测量等。
在疫情下口罩令Face ID的使用相对不便，而Apple成功申请的专利越来越多，或许能使iPhone实现无实体键的Touch ID及完全去除“M字额”。
数据源 :Wccftech