英伟达（Nvidia Corp.）为了推动人工智能（AI）发展、迎接全新芯片制造时代，宣布推出可让芯片代工厂加快蚀刻体积更小晶体管的软件及一系列商用AI产品，台积电、荷兰半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding N.V.）及美国电子设计自动化（EDA）软件商Synopsys都是合作伙伴。
英伟达首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）21日在年度GPU技术大会（GTC）宣布推出“cuLitho”软件库，能改善表达式微影技术（computational lithography）。表达式微影技术主要通过算法提升蚀刻至硅芯片的晶体管分辨率。“cu”代表英伟达的CUDA平行运算及App平台。
英伟达表示，台积电及Synopsys都会使用cuLitho软件库，而ASML则将跟英伟达合作，把GPU支持集成至微影软件。
黄仁勋通过声明稿表示，“芯片产业是世界上几乎所有产业的基石。有鉴于微影技术已达物理极限，英伟达决定推出cuLitho软件库并跟伙伴台积电、ASML、Synopsys合作，让芯片厂增加产出效率（ throughput）、减少碳足迹，也替2纳米及更微小的制程打下基础。”
MarketWatch报道，cuLitho软件库负责人Vivek Singh 21日在媒体电话会议上，虽无法对英伟达的软件定价策略或商业模式做出具体回应，但提到软件库可在关键处协助芯片制造商。
根据声明稿，cuLitho软件库可让内置500颗英伟达“DGX H100”GPU数据中心的工作量，媲美内置40,000颗CPU的系统。这能减少用电及空间需求，也可降低对环境的冲击。
不只如此，运用cuLitho软件库的芯片厂还可将每日光罩产量提升3~5倍，用电量却比当前组态少9倍（从35 MW减至5 MW）。也就是说，之前得花两周才能完成的光罩，现在只消一晚即可制出。
台积电总裁魏哲家通过声明稿表示，cuLitho团队在加快表达式微影技术方面有了令人钦佩的进展，方式是将昂贵的运行转移至GPU。最新发展为台积电打开新的可能性，能更加广泛地部署反向微影技术（inverse lithography technology）和深度学习（deep learning）等微影解决方案，进而对半导体缩放的延续性做出重要贡献。
台积电ADR 21日闻讯大涨2.73%、收92.50美元，创2月15日以来收盘新高；年初迄今已跳涨24.18%。英伟达同步上涨1.15%、收261.99美元，创2022年4月4日以来收盘新高；年初迄今飙涨79.27%。
（首图来源：shutterstock）