据中国媒体报道，中国半导体大厂中芯国际将于今年第四季量产14纳米并且投入7纳米的试产，预其明年也能正式量产。
中芯联席首席执行官梁孟松指出，新制程工艺N+1作为14纳米的后继者，性能提高了近20%，且功耗降低了57%，逻辑面积更缩小近63%，晶体管密度将会超过两倍。这也是被舆论认为是7纳米制程不仅如此，中芯还宣称正在开发加强版制程N+2。
其实中芯一直并未真正表态是否跳过10纳米制程，只不过梁孟松提到了N+1制程在功耗及稳定性上跟7纳米工艺非常相似，所以被认为是7纳米制程，但实际上，相较于其他大厂的7纳米的性能应还是较为落后，后续要继续观察N+2的表现。
目前如台积电在7纳米节点发展了3种制程，预期中芯应该也是一样，不过在缺乏EUV的帮助下，如何进一步满足市场对高性能的需求，仍是相当大的挑战。此次新制程不直接以节点命名，或许也是策略的一环。但其实最引起关注的是，中芯表示这两种制程都不需要使用EUV光刻机就能完成。
除了性能到底是否达标受市场关注外，在不使用EUV的情况下，是否反而会令边际成本更加提高，也是个问题，目前相关细节仍不多。原本有消息传出，近日中芯已成功从荷兰进口一台EUV设备，但已有中国媒体报道指出，这是误传。
中芯作为后进的芯片代工厂，虽然进度仍落后国际大厂，但已比预期为快，若7纳米明年真能在缺乏EUV设备的情况下顺利量产，会是个好消息。当然其背后的投入也很大，今年的资本支出预计将达到31亿美元，而其年营收目前也仅约30亿美元而已。
且短期内中芯对先进制程的投入，还不那么容易回收，目前14纳米主要是在上海厂生产，也仅贡献营收1%，产能还待持续扩张。不过梁孟松也表示，今年3月14纳米月产能就有望提高至4千片，7月达到9千，年底前将增至1万5千之数。目前不少外资也相当看好中芯前景。
（首图来源：中芯国际）