台积电连续10年营收创高，率先全球采用极紫外光（EUV）微影技术推动7纳米技术前进是关键因素之一，而事实上，独家EUV设备供应商ASML（艾司摩尔科技）客户包括众多半导体巨头，包括三星、英特尔、中国半导体企业等。
在台积电说明会上，EUV是近年不断提到的微影制程名称，也是现今能在芯片上画出最精密线路的光罩技术，究竟微影技术是什么？在神秘的半导体无尘室如何进行？这家全球最大微影设备供应商ASML用图片视觉披露微影技术的真实面貌。
ASML的EUV设备内部运行
ASML是荷兰半导体微影设备供应巨头，台积电也是客户之一。
ASML指出，在半导体制程中微影（Lithography）是驱使芯片性能更高、成本更低的关键技术。早期芯片可以容纳数千个微米大小的晶体管（Transistor），目前最先进的芯片则是由数十亿个晶体管组成的复杂网络，其中最小的只有10纳米。
若想要想象10纳米有多小？ASML举日常生活例子，答案是：在阅读刚刚那一句话的时候，你的指甲就大约生长了10纳米。
不过尽管摩尔定律不断被质疑走到尽头、缩小晶体管变得越来越困难，但是在抵达物理极限之前，ASML认为现今还是有发展的空间。
微影制程即是：用一台微影设备（Lithography），也称作曝光机，也可以算是一种扫描仪器，将光通过光罩（Mask或Reticle），并利用ASML微影设备的光学系统将投影缩小并聚焦在感光硅芯片上。
ASML的EUV微影设备
当光罩上的线路图案（Patterns）转印完后，机台会稍微移动芯片，并将后续的线路图案继续转印在同一片芯片上。这个过程会一直重复直到芯片布满线路图案，便完成芯片的一层。要生产出完整的芯片，这个过程必须重复100次以上，将线路图案叠加，形成集成电路(Integrated Circuit)。
线路图案的尺寸大小取决于芯片各层，也就是说，芯片各层的曝光需要不同类型的微影设备。
ASML的EUV极紫外光机台专门曝光最复杂、精细的线路图案，而DUV深紫外光微影设备就用来曝光“比较不这么精密”的线路图案。