日本对销往韩国的三种半导体原料，实施出口管制将近一年以来，韩国终于成功开发出本土产品。SK Materials宣布，已经开始量产蚀刻气体（etching gas），减少对日本关键原料的依赖。
韩联社、Aju Business Daily 17日报道，SK集团旗下的SK Materials，去年在韩国荣州市（Yeongju）兴建年产量15吨的蚀刻气体工厂，17日宣布开始量产高纯度蚀刻气体──氟化氢（hydrogen fluoride），这是生产芯片的重要原料，可以洗掉制程时芯片片上堆积的异物。
SK Materials可能会供货内存大厂SK海力士，不过SK Materials不愿评论。2019年7月，日本加强对三项原料的出口管制，分别是氟聚酰亚胺、光阻剂、蚀刻气体（高纯度氟化氢），都是生产半导体和可挠式面板的关键原料。不只如此，日本还把韩国踢出贸易优惠待遇国的名单之外。日韩交恶，韩国企业全力启动相关原料本土化生产。
蚀刻气体之外，SK Materials还打算兴建氟化氩光阻剂（ArF photoresist）工厂，预定2021年完工、2022年起每年产量达5万加仑。另外，SKC准备要生产高端光罩基板（mask blanks），也是半导体的重要原料。