全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML) 于14日发布2020年第3季财报，销售净额(net sales) 为40亿欧元，净收入(net income) 达到11亿欧元，毛利率(gross margin) 为47.5%，添加订单金额29亿欧元。
ASML总裁暨首席执行官Peter Wennink表示，ASML在2020年第3季的营收达到40亿欧元，优于财报预测，毛利率则是维持在47.5%。整体来说，2020年第3季完成10台EUV系统出货，并认列14台EUV系统的营收。而运营在本季并未受到新冠肺炎疫情的重大冲击，使得第3季的添加订单金额达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4台EUV系统订单。
Peter Wennink进一步指出，预期2020年第4季的营收将落在36亿欧元到38亿欧元之间，毛利率约50%，研发成本约5.5亿欧元，管销费用约1.4亿欧元。因此，2020年的营收预期已经确定，预估年度有效税率约14%。至于，2021年，ASML预期将有超过两位数的营收增长。尽管宏观环境存在不确定性，包括新冠肺炎疫情的经济影响和地缘政治发展，然而，长期来看，终端市场驱动因素的发展（例如5G、AI和高性能计算）将推动对于高端逻辑运算和内存芯片的需求，这些高端制程都需要使用到先进的微影技术。
至于，针对业务的发展，ASML表示，DUV (深紫外光) 微影系统业务在第3季已对首台TWINSCAN NXT:2050i微影系统进行认证，并于第4季初完成出货。TWINSCAN NXT:2050i在光罩载台(reticle stage)、芯片载台(wafer stage)、投影镜头(projection lens) 及曝光激光(exposure laser) 方面都有新的技术发展，相较于前一代，TWINSCAN NXT:2050i可以实现更好的叠对控制和更高的生产力。而TWINSCAN NXT:2050i将立即进入量产。
而在EUV (极紫外光) 微影系统业务方面，绝大部分在客户端的NXE:3400B EUV系统都已完成生产力模块 (productivity packages) 的升级。ASML也公布了新一代EUV系统TWINSCAN NXE:3600D的最终规格，该系统的生产力提高18%，能在30 mJ/cm²的曝光能量下达到每小时曝光160片芯片的生产力，同时将匹配机器叠对精度（matched machine overlay）提高到1.1 nm，该系统预计于2021年中开始出货。
(首图来源:ASML)